西湖大學等推StyleStudio 攻克風格過擬合
想讓生成圖像帶上特定風格,又要忠於文字描述?西湖大學等機構提出的StyleStudio針對風格遷移的多年痛點給出新方案,成果獲CVPR 2025接收,且無需額外訓練即可使用。
現有痛點
隨著擴散模型發展,文本引導的風格遷移取得顯著突破,但現有方法在融合風格圖像與文字描述時,往往讓結果過度依賴參考風格圖,導致文本對齊變差、生成圖像不穩定等問題。


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