ORCA框架同時解析多種RNA修飾動態
針對單一RNA修飾的研究已相當深入,但由於缺乏同時檢測多種修飾的方法,轉錄組尺度的表觀轉錄組圖景及其潛在互作關係仍知之甚少。一個名為ORCA的計算框架為此提供了新工具。
技術框架
ORCA結合深度學習與納米孔直接RNA測序,利用RNA修飾混合修飾比例導致的電信號與鹼基識別差異,實現對多種修飾的無偏檢測與定量,並可透過遷移學習在極少先驗條件下完成修飾類型注釋。


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